在微纳制造技术快速迭代的今天，无掩膜光刻技术以其柔性化、低成本、高精度的优势，正成为突破传统光刻技术瓶颈的关键路径。然而，该技术在国内仍面临核心设备依赖进口、工艺标准化不足、产学研协同脱节等挑战。为推动技术攻关与产业落地，由复创芯携手苏州迈璀半导体和复旦大学国家大学科技园共同发起的“无掩膜光刻应用于微纳器件加工”产学研沙龙于6月25日在复旦科技园成功举办。

活动伊始，“复创芯”联合创始人卢红亮致欢迎词，强调无掩膜光刻技术产学研各界“开放协作，共筑生态”的重要意义，现场嘉宾纷纷表示赞同。复旦大学王恒亮老师详细介绍了复旦微纳加工平台的无掩膜光刻应用案例。上海交通大学杨卓青教授以3D曲面光刻技术为主题进行了分享。中国科学院上海光学精密机械研究所魏劲松研究员深入解析了激光热模光刻技术的原理与产业化前景。日本NEOARK公司专家Akihito Wada分享了光刻技术在MEMS和光电融合原型开发中的潜力。

在嘉宾主题分享的启发下，沙龙进入开放式讨论环节，高校学者、企业代表围绕“无掩膜光刻技术如何应用于集成电路、光电器件及MEMS传感器”“设备/材料/工艺/器件领域的公司、科研院所如何加强产学研合作”“AI时代，不同院校专业如何在人才培养、项目研发方面加强协同合作”三大核心议题展开了探讨。

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